ချုံကင်းစက်မှုလုပ်ငန်းသုံး အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်ထုတ်လုပ်သူက anod oxidation လုပ်ငန်းစဉ်ကို ပြောပြသည်။

မျက်နှာပြင်ပြုပြင်ခြင်း သို့မဟုတ် မျက်နှာပြင်ကြိုတင်ပြုပြင်ခြင်းဟုလည်း လူသိများသော မျက်နှာပြင်ပြုပြင်ခြင်းဆိုသည်မှာ အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ အညစ်အကြေးများကို ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာနှင့် ဓာတုဗေဒပစ္စည်းများကို အသုံးပြု၍ ဖယ်ရှားပေးခြင်းဖြင့် အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်ကိုယ်ထည်နှင့် ထိတွေ့နိုင်စေပြီး နောက်ပိုင်းအဆင့်တွင် အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် အောက်ဆီဒေးရှင်းကုသမှုအတွက် အဆင်ပြေစေပါသည်။

အဆီဖယ်ရှားခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်၏ ရည်ရွယ်ချက်မှာ အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်၏ မျက်နှာပြင်တွင် ကပ်နေသော စက်မှုလုပ်ငန်းသုံး ချောဆီများ၊ သံချေးတက်ခြင်း ဆန့်ကျင်သည့်ဆီနှင့် အညစ်အကြေးများကို ဖယ်ရှားရန်၊ အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်၏ အယ်ကာလီ သံချေးတက်မှု တစ်ပြေးညီဖြစ်စေရန်နှင့် အယ်ကာလီ သံချေးတက်သည့် တိုင်ကီ၏ သန့်ရှင်းမှုကို သေချာစေရန်ဖြစ်သည်။ အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်၏ မျက်နှာပြင်ကုသမှု အရည်အသွေးကို မြှင့်တင်ပါ။

မျက်နှာပြင်အက်ဆစ်ထွင်းခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်သည် အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်ကို အဆီချွတ်ပြီးနောက် မျက်နှာပြင်အက်ဆစ်ထွင်းခြင်းကုသမှုကို ပြုလုပ်ရန်ဖြစ်ပြီး ဖယ်ရှားခြင်း၏ အဓိကရည်ရွယ်ချက်မှာ အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ အခြားသတ္တုဒြပ်စင်များ ဓာတ်တိုးခြင်းကြောင့် ဖြစ်ပေါ်လာသော အောက်ဆိုဒ်နှင့် ပရိုဖိုင်မှ သဘာဝအတိုင်းဖြစ်ပေါ်လာသော အောက်ဆိုဒ်အလွှာကို ဖယ်ရှားရန်ဖြစ်သည်။ အက်ဆစ်ချေးခြင်းကုသမှုပြီးနောက် ၎င်းကို ချက်ချင်းဆေးကြောရန် လိုအပ်ပြီး ပရိုဖိုင်၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် စီးဆင်းမှုအမှတ်အသားများ မဖြစ်ပေါ်စေရန် ဆေးကြောသည့်အပူချိန်ကို 50 ℃ စောစီးစွာ ထိန်းချုပ်ထားသင့်ပြီး ထို့နောက် ရေစီးကြောင်းဖြင့် သန့်ရှင်းရေးလုပ်သင့်သည်။ အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်တွင် ကြေးနီပါဝင်သောကြောင့် အက်ဆစ်ချေးခြင်းစမ်းသပ်မှုပြီးနောက် မျက်နှာပြင်သည် မှောင်မိုက်လာပြီး မျက်နှာပြင်တောက်ပသော ငွေရောင်ဖြစ်စေရန် နိုက်ထရစ်အက်ဆစ်အရည်တွင် 3-5 မိနစ်ခန့်စိမ်ရန် လိုအပ်သည်။

အယ်ကာလီ ထွင်းထုခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်၏ အဓိကရည်ရွယ်ချက်မှာ အောက်ဆီဒေးရှင်းအတွင်း အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိ ကျန်ရှိနေသော အရာများနှင့် အသွင်ပြောင်းအလွှာများကို ဖယ်ရှားရန်နှင့် နယ်နေစဉ်အတွင်း အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် ကျန်ရှိနေသော ခြစ်ရာအပြစ်အနာအဆာများကို ဖယ်ရှားရန်ဖြစ်သည်။ အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်မျက်နှာပြင်၏ အယ်ကာလီ ထွင်းထုခြင်းသည် အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်မျက်နှာပြင်၏ အလုံးစုံအရည်အသွေးတွင် အရေးကြီးသောအခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်သည်။

ကြားနေအောင်ပြုလုပ်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်၏ ရည်ရွယ်ချက်မှာ အက်ဆစ်ထွင်းခြင်းနှင့် အယ်ကာလီထွင်းခြင်းပြီးနောက် အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်မျက်နှာပြင်တွင် ကျန်ရှိနေသော အယ်ကာလိုင်းအရည်တွင် မပျော်ဝင်နိုင်သော ကြေးနီ၊ မန်းဂနိစ်၊ သံ၊ ဆီလီကွန် စသည်တို့ကဲ့သို့သော အလွိုင်းဒြပ်စင်များ သို့မဟုတ် မသန့်စင်မှုများကို ဖယ်ရှားရန်ဖြစ်သည်။ ယေဘုယျအားဖြင့် အယ်ကာလိုင်းထွင်းခြင်းပြီးနောက် အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်ပေါ်တွင် ကျန်ရှိနေသော အယ်ကာလိုင်းအရည်ကို ကြားနေအောင်ပြုလုပ်သည့်နည်းလမ်းမှာ ၃၀% မှ ၅၀% နိုက်ထရစ်အက်ဆစ်အရည်ကို အသုံးပြုခြင်းဖြစ်သည်။ ဆီလီကွန်မြင့်မားသော အလူမီနီယမ်အလွိုင်းအတွက် နိုက်ထရစ်အက်ဆစ်နှင့် ဟိုက်ဒရိုဂျင်ဖလိုရိုက်တို့၏ ရောနှောထားသောအက်ဆစ်ကို ၁:၃ အချိုးဖြင့် ရွေးချယ်သည်။ ဆီလီကွန်သည် ဟိုက်ဒရိုဂျင်နှင့် ဟိုက်ဒရိုဖလိုရစ်အက်ဆစ်တို့နှင့် ဓာတ်ပြုပြီး ဖလိုအိုဆီလီဆစ်အက်ဆစ်ကို ထုတ်လုပ်ပေးပြီး အလူမီနီယမ်မျက်နှာပြင်မှ ထွက်ခွာသွားသည်။

anod oxidation ကုသမှုနည်းလမ်းမှာ ဖျော်ရည်ကို medium အဖြစ်အသုံးပြုပြီး tip discharge ကို ရွေးချယ်ကာ အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်၏ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် oxide film တစ်ခုဖွဲ့စည်းပေးသောကြောင့် အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်သည် အလွန်ချေးခံနိုင်ရည်ရှိသည်။ အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်၏ anod oxidation မှရရှိသော အကာအကွယ်အလွှာသည် မာကျောမှုနှင့် ချေးခံနိုင်ရည်မြင့်မားသောကြောင့် စံအထူသည်၁၀-၁၂ မိုက်ခရိုမီတာအလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်၏ အောက်ဆီဒေးရှင်းခံနိုင်ရည်နှင့် အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်၏ အလှအပကို ပိုမိုကောင်းမွန်စွာ တိုးတက်ကောင်းမွန်စေနိုင်သည်။